CVD-1100設(shè)備工作原理

,#,單擊此處編輯母版標題樣式,單擊此處編輯母版文本樣式,第二級,第三級,第四級,第五級,9/2/2011,#,Hanergy,Confidential,浙江長興漢能光伏有限公司,#,/n,CVD-1100,設(shè)備工作原理,一、設(shè)備構(gòu)成,二、工作原理,三、日常維護,目,錄,CVD-1100,型等離子化學氣相沉淀設(shè)備主要有以下幾個部分組成：,1.,真空系統(tǒng)（泵組部分），,2.,淀積部分，,3.,特氣系統(tǒng)，,4.,射頻系統(tǒng)。原理圖如下所示：,一、設(shè)備構(gòu)成,1,、真空系統(tǒng),如上圖所示,真空系統(tǒng)主要由一系列泵和波紋管及閥門等組成，主要作用是：維持淀積腔室真空狀態(tài)，保持腔室壓力穩(wěn)定，及時抽走反應生成的顆粒（硅粉等）。,2,、淀積部分,此部分主要包括沉積爐和工件架，主要作用是淀積所需膜質(zhì),沉積溫度：,200-230,沉積壓力：,0.5-1Torr(50-133Pa),3,、特氣系統(tǒng),主要有管道和電磁閥組成，主要作用是提供成膜所需要的特氣及吹掃腔室的氣體。,反應氣體：,Ar,、,CH,4,、,B,2,H,6,、,H,2,、,SiH,4,、,GeH,4,、PH,3,清潔氣體：,NF,3,吹掃氣體：,N,2,質(zhì)量流量計量程：,TMB,（三甲基硼,C,3,H,9,B,）、,PH,3,、GeH,4,:4000scm,Ar,、,CH,4,、,SiH,4,：,15000scm,H,2,:30000scm,4.,射頻系統(tǒng),主要由,RF,射頻電源柜組成，,18,分立電源控制,18,個電極，可對單個電極進行調(diào)節(jié)。,二、工作原理,1.,真空系統(tǒng)工作原理,開始,開維持泵,開機械泵,開預抽閥,抽真空至,500Pa,開羅茨泵，關(guān)旁路閥,抽真空至,5Pa,抽真空至本底真空,開高閥,開前級閥,關(guān)羅茨泵,開旁路閥,關(guān)預抽閥,2.,沉積工作原理,在沉積腔室一定的低真空狀態(tài)下，通入反應氣體，待氣流穩(wěn)定后，打開射頻電源對反應氣體進行電離，進而生成所需要的膜質(zhì)。反應流程如下所示：,導入工件架,接通電極、特氣管道、接地,試起輝（電源設(shè)定,50W,）,開預抽閥（,500Pa,）,開羅茨泵（,5Pa,）,開前級閥，高閥（抽本地真空）,通入反應氣體（,3,分鐘內(nèi)流量穩(wěn)定）,起輝（,3,分鐘內(nèi)起輝穩(wěn)定）,沉積,吹掃（,Ar,最大流量，,3,次）,解除電極連接、特氣連接、接地連接,緩慢拉出工件架,清潔腔室,冷卻,三、日常維護,每日操作人員需對沉積爐、泵、循環(huán)水、特氣、,RF,電源，加熱等系統(tǒng)點檢。,THE END,THANKS!,