等離子清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)等離子清洗機(jī)（plasmacleaner）也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子 表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清 洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的 第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離 化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、 原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī) 就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、 涂覆等目的。等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做 物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。 等離子體的”活性"組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素 （亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組 分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài) 三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在， 如地球大 氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動 狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基） ； 離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保 持電中性狀態(tài)。在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面. 以達(dá)到清洗目的.優(yōu)勢一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理 即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€工藝流水線的處理效率；二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題； 三、避免使用三氯乙 烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清 洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越 發(fā)顯出它的重要性；四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線 不同。等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼 和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形 狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至 更好；五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個 清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)；六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很 容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用 價格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工 藝；七、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運(yùn)輸、存儲、排放等處 理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生；八、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材 質(zhì)，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料（如聚丙烯、聚 氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可以 使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。 而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗；九、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。 如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非 常重要的。